Absolwencie, praca czeka na Ciebie!

Udostępnij

kategoria: inne ciekawe wydarzenia

AIESEC umożliwia absolwentom i studentom wyjazd na płatną praktykę zagraniczną. Aktualnie rekrutację prowadzi oddział AIESEC Politechnika Wrocławska. Dzięki nowym ofertom, możliwy jest jeszcze łatwiejszy wyjazd w krótszym czasie.

AIESEC największa organizacja na świecie, umożliwia członkom sprawdzenie się w roli lidera, a także rozwój różnorodnych umiejętności. Umożliwia również wyjazd na płatną praktykę zagraniczną lub wolontariat zagraniczny, do jednego ze 107 krajów świata. Oddział przy Politechnice Wrocławskiej prowadzi do końca listopada otwartą rekrutację na praktyki zagraniczne.

„Aktualnie, prowadzimy rekrutację na płatne praktyki dla absolwentów, którzy skończyli przede wszystkim kierunki informatyczne, albo filologię”- wypowiada się Tomasz Barszczewski, Wiceprezydent ds, Studentów Wyjeżdżających z AIESEC przy Politechnice Wrocławskiej- „Do wyboru mamy ofert z rożnych krajów, takich jak np: Węgry, Turcja, Indie, Chiny, Brazylia czy Kolumbia. Czynnikiem podkreślającym jak atrakcyjne są praktyki techniczne są firmy, w których można odbyć staż zagraniczny: są wśród nich tak znane firmy jak Dell, Microsoft, Google, Opera, Tata Consulting i inne.”

Proces rekrutacji jest bardzo prosty. „Wchodzisz na stronę AIESEC Politechnika Wrocławska, www.pwr.aiesec.pl, gdzie wypełniasz prosty formularz zgłoszeniowy do 29 listopada. Następnie umawiamy się z Tobą na krótką rozmowę, podczas której poznamy Cię lepiej, i dowiemy się jak wiele interesujących praktyk znajdziemy dla Ciebie”. Po rozmowie, czeka Cię tylko cykl szkoleń przygotowujących do szukania odpowiedniej praktyki i wyjazdu.

„AIESEC prowadzi program praktyk od ponad 60 lat. „Co ciekawsze, AIESEC oferuje nie tylko wyjazd na praktyki zagraniczne, na płatne praktyki. Jednocześnie pomaga w załatwieniu formalności związanych z wyjazdem”- stwierdza Tomasz Barszczewski.
Termin składania aplikacji na płatne praktyki upływa 29.11.2009r
Więcej informacji znajdziesz na www.pwr.aiesec.pl

ostatnia zmiana: 2009-11-23